電子半導體行業(yè)的生產流程復雜,涉及光刻、蝕刻、沉積、清洗等多個環(huán)節(jié),每個環(huán)節(jié)都會產生不同類型的廢氣。這些廢氣中除了含有常規(guī)的粉塵顆粒外,還夾雜著氟化物、氯化物、氮氧化物、揮發(fā)性有機化合物(VOCs)等腐蝕性物質和有毒有害氣體。因此,電子半導體行業(yè)對廢氣處理設備有著嚴格的要求,不僅需要高效去除粉塵顆粒,還要具備耐腐蝕、運行穩(wěn)定、不產生二次污染等特點,以滿足行業(yè)的環(huán)保標準和生產需求。對于濕電除塵器在電子半導體行業(yè)的具體應用場景如下:

(一)晶圓制造環(huán)節(jié)
在晶圓制造過程中,光刻和蝕刻工序會產生大量的光刻膠粉塵和蝕刻反應殘留物。光刻膠粉塵顆粒細小、黏性大,若不及時清除,會附著在光刻掩膜版和晶圓表面,影響光刻精度和蝕刻效果。濕電除塵器能夠利用高壓電場使粉塵顆粒帶電,然后通過水霧將帶電顆粒捕獲并沉降,有效去除光刻膠粉塵,去除效率可達 99% 以上。同時,對于蝕刻過程中產生的含氟、含氯等腐蝕性氣體,濕電除塵器中的堿性吸收液可以與之發(fā)生化學反應,將其轉化為無害物質,實現(xiàn)粉塵和有害氣體的協(xié)同去除。
(二)半導體封裝測試環(huán)節(jié)
半導體封裝測試過程中,切割、研磨等工序會產生大量的半導體材料粉塵,如硅粉、金屬粉末等。這些粉塵若進入封裝設備內部,會影響設備的精密傳動和焊接質量,導致封裝后的半導體器件出現(xiàn)可靠性問題。濕電除塵器可以安裝在切割、研磨設備的排氣口,通過高效的除塵機制,將粉塵顆粒截留,確保排氣中的粉塵濃度符合行業(yè)標準。此外,濕電除塵器的濕法處理方式還能有效抑制粉塵的二次飛揚,保持生產車間的潔凈環(huán)境。
(三)半導體材料生產環(huán)節(jié)
在半導體材料(如單晶硅、多晶硅、碳化硅等)的生產過程中,會產生大量的原料粉塵和反應副產物粉塵。例如,單晶硅棒切割過程中會產生大量的硅粉,多晶硅還原過程中會產生硅烷分解粉塵等。這些粉塵不僅具有較高的回收價值,若直接排放到大氣中,還會對環(huán)境造成嚴重污染。濕電除塵器在半導體材料生產環(huán)節(jié)的應用,不僅能夠高效收集粉塵,便于后續(xù)的回收利用,降低企業(yè)的原料成本,還能減少粉塵對環(huán)境的排放。同時,針對某些具有腐蝕性的粉塵,濕電除塵器可以通過選擇合適的防腐材料和吸收液,避免設備受到腐蝕,延長設備的使用壽命。